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【48812】国林科技:公司现在研发的高浓度臭氧气体产生器设备可用于薄膜堆积工艺的氧化成膜

时间: 2024-04-16 00:48:37 |   作者: 制药行业

  每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:可否介绍一下产品薄膜堆积设备运用?

  国林科技(300786.SZ)5月26日在出资者互动渠道标明,公司现在研发的高浓度臭氧气体产生器设备可用于薄膜堆积工艺的氧化成膜,传统的薄膜堆积制成办法有三种:PVD、CVD、ALD,PVD归于物理办法,CVD、ALD首要运用臭氧经过化学反应在硅片标明产生薄膜维护。

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